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  • 产品名称: ks-m175s-1cl半自动mask清洗机
  • 基片尺寸: 5”-7”
  • 适用材料: 有机玻璃
  • 适用工艺: 光通信芯片制造

  适用5″-7″标准光刻板表面刷洗工艺。

1.机台设计精巧,手动上下片自动完成清洗工艺。

2.工艺单元灵活选配,配备高压水、常压水、毛刷、超声清洗等单元,有效去除残留光刻胶及0.5um以上particle

3.人机交互接口,操作灵活,维护方便。

基片尺寸:125mm*125mmmm175mm*175mm

常压清洗液:有机溶剂/ 碱性清洗剂

高压清洗液:di

刷子材料:动物毛/ 尼龙/ pva
主轴转速:max.2,000rpm

可选单元:表面活性剂处理,超声清洗
外型尺寸:w900×d700×h1700 (mm)

光通信

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