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  • 产品名称: ks-m175s-1cl半自动mask清洗机
  • 基片尺寸: 5”-7”
  • 适用材料: 有机玻璃
  • 适用工艺: 功率芯片制造

  适用于在功率芯片制造过程中5″-7″标准光刻板表面刷洗工艺。

  1.机台设计精巧,手动上下片自动完成清洗工艺。

  2.工艺单元灵活选配,配备高压水、常压水、毛刷、超声清洗等单元,有效去除残留光刻胶及0.5um以上particle。

  3.人机交互接口,操作灵活,维护方便。

基片尺寸: 125mm*125mmmm~175mm*175mm
常压清洗液:有机溶剂 / 碱性清洗剂
高压清洗液:di水
刷子材料:动物毛 / 尼龙 / pva
主轴转速:max.2,000rpm

可选单元:表面活性剂处理,超声清洗
外型尺寸:w900×d700×h1700 (mm)
功率半导体

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