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适用用于前道300mm规模生产线。满足90nm光刻的涂胶显影工艺。

1.堆叠式结构，容纳spin单元数量最大为4，包括2个涂胶单元和2个显影单元。容纳热盘塔数量最大为2，容纳热处理单元数量最大为16。每个涂胶单元最多可以容纳4种光刻胶。

2.最高产能达到80wph。

3.小占地面积，高可靠性，高稳定性，易于维护，低coo。

4.客制化开发。