为了实现国产匀胶显影设备与市场主流光刻机的联机测试、评价芯源生产的匀胶显影设备的性能、满足大批量生产的设备配置及技术参数、完成国产 300mm 匀胶显影设备光刻工艺开发，提供完整的工艺开发与生产数据，芯源公司采购了国际主流的193nm光刻机。
6月29日，光刻机到达芯源完成move in工作，预计9月末安装调试完成。目前已完成track与光刻机的联机工作，首次实现了国产前道设备与国际主流光刻机联机运行，对于芯源前道设备进入fab工厂，实现实际应用具有划时代的意义。
图一 光刻机到厂 图二 asml光刻机
